台积电一句不买光刻机巨头ASML股价暴跌：下代EUV得靠Intel买单

在近期举行的北美技术研讨会上，台积电公布了A13和A12两款新工艺，它们都计划于2029年推出，属于A14节点的改进版本。

更为关键的是，台积电此次正式回应了对下一代EUV光刻机的看法，其CEO魏哲家明确表示，公司不会采购High NA EUV光刻机。

这一声明导致唯一能制造EUV光刻机的ASML公司股价暴跌5.5个百分点。目前ASML市值超过4600亿美元，过去一年股价翻了一番，今年也已上涨超过30%。

台积电不采购的直接原因是价格过高。High NA EUV光刻机的售价高达3.5亿欧元，约合4亿美元，是当前EUV光刻机价格的两倍左右。

台积电创始人张忠谋对此评价道，High NA EUV光刻机“非常非常昂贵”。

然而，仔细分析后，台积电不采购这种光刻机的说法值得进一步探讨。该公司每年的资本开支约为500亿美元，今年可能增长到560亿美元，即使High NA EUV光刻机贵了2亿美元，一条生产线的成本增幅也不会太大。

这更像是一种商业考量，因为台积电已将长期毛利率目标设定在56%以上。此前，台积电的目标仅为约50%。不要小看这几个百分点的差异，它很快会转化为每年50至100亿美元的利润差别。

结合台积电推出的A13和A12工艺，就能更清楚理解其意图。原本在A14工艺之后应为A10工艺，但如今却新增了两个过渡工艺，且性能提升不会很明显。台积电甚至没有明确提及性能和功耗变化，仅表示A13相比A14芯片面积可缩减约6%。

High NA EUV光刻机的数值孔径（NA）为0.55，远高于当前EUV光刻机的0.33，这有助于提高光刻分辨率，直接增强工艺能力。该设备是1.4纳米节点之后的必要工具，但台积电显然不愿借助High NA EUV光刻机来推进技术，而是计划继续使用现有EUV光刻机打磨A14工艺，以此支撑数年。

ASML此前预计，High NA EUV光刻机将在2027至2028年间大规模销售，并将2030年营收目标设定为600亿美元。如今台积电拒绝了这一设备，该目标实现起来可能面临困难。

High NA EUV光刻机的主要客户将转向英特尔。ASML预计明年可销售10台High NA EUV光刻机，其中2台由SK海力士购买，其余大部分由英特尔采购。英特尔计划将这些设备用于18A之后的14A工艺。

英特尔此前在EUV光刻机进度上落后，如今选择加大对下一代High NA EUV光刻机的投资，而台积电则采取了更保守的策略。两家企业孰对孰错目前无法判断，三四年后，根据谁的工艺能赢得更多客户，才能分出胜负。

来源：快科技